https://new.qq.com/omn/20211120/20211120A06ROD00.html
光刻機作為芯片產業中最為重要的環節，一直是國產芯片產業急於攻破的難關。長期以來國產半導體行業的發展也因為光刻機嚴重不足而受到種種限制。特別是在如今全球缺芯的大環境下，擁有全球最為出色的基礎設施和產業鏈建設的中國本來有能力成為最大贏家，但是因為光刻機的限製而不得不錯失這一良機。
但是在最近的舉辦的第四屆中國國際進口博覽會上，ASML全球副總裁沈波卻突然表示：“對向中國出口集成電路光刻機持開放態度，在法律法規框架下全力支持。目前ASML除了EUV光刻機無法對中國客戶供貨外，其他產品都可以正常發貨。”為何ASML突然轉變態度要向我們放開供應DUV光刻機了呢？
答案是國產光刻機已經取得了突破即將下線。其實光刻機的研製可以追溯到2006年發布的《極大規模集成電路製造技術及成套工藝》項目，因次序排在國家重大專項所列16個重大專項第二位，在行業內被稱為“02專項”。而國產光刻機就是“02專項”中的重點任務。
眾所周知一台光刻機上需要大量的零件，僅依靠一家或幾家科研機構是不可能完成的任務。因此從2006年開始就將光刻機上的主要零件分解為大量任務並委託國內幾大科研機構進行共同攻關。
根據已知的資料可以了解到光刻機雙工件台系統由清華大學/華卓精科聯合研發；EUV極紫外光源由中科院長春光機所負責研發；高NA浸沒光學系統由長春國科精密光學負責研發；區熔矽單晶片由中環股份負責研發；EUV光刻膠由中國科學院化學研究所/中國科學院理化技術研究所/北京科華微電子材料有限公司聯合研發。除了這些公開的企業之外肯定還有其他大量科研機構同樣在為這台光刻機默默貢獻著力量。
而193nm ArF準分子激光的干式和浸沒式DUV光刻機則由上海微電子負責攻關研發。這台光刻機也可以說是集合了國內頂尖的科研實力完成了突破。本來預定將在2020年底正式完成，但是因為眾所周知的原因而不得不延遲到2022年。
也正是因為國產光刻機取得了突破，因此ASML才突然改口並放開了供應。但其實這種手段在盾構機、機床、矩陣雷達等多種領域上都被使用過。當我們造不出來的時候，發達國家就以高昂的價格向我們出售，而一旦我們取得突破之後立刻進行降價銷售爭奪市場。曾經的國產機床霸主瀋陽機床廠最終破產實際上就有這方面的原因。
如今面對ASML的示好我們也應該保持警惕，ASML之所以選擇放開供應的根本原因還是因為我們已經能夠完成國產DUV的研製，因此繼續封鎖已經毫無意義還不如趁機銷售搶占市場。
在DUV光刻機已經降價銷售的同時，EUV光刻機依然無法提供則更是證明了ASML的用心——生產不出來的EUV光刻機依然被當成製約我們發展的一種手段。而通過DUV的降級銷售無疑會打擊國內光刻機及相關廠商繼續研發的熱情，下一代的EUV光刻機研發也會受到影響。
因此雖然ASML放開DUV光刻機銷售在短期內對於我們的芯片產業是一個好消息，但是長遠來看隱藏在其後的陰謀我們不能不防。
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